




版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認領(lǐng)
文檔簡介
1、半導(dǎo)體物理第六章PN結(jié)一組制作什么是PN結(jié)? 在一塊n型(或者p型)半導(dǎo)體單晶上,用適當(dāng)?shù)墓に嚪椒ǎê辖鸱?、擴散法、生長法、離子注入法等)把p型(或者n型)雜質(zhì)摻入其中,使這塊單晶的不同區(qū)域分別具有n型和p型的導(dǎo)電類型,在兩者的交界面處所形成的空間電荷區(qū)就是pn結(jié)。而空間電荷區(qū)之外的部分與獨立的摻雜半導(dǎo)體性質(zhì)相同,不屬于PN結(jié)區(qū)域。 PN結(jié)具有單向?qū)щ娦?。熱平衡狀態(tài)下,PN結(jié)的任何區(qū)域滿足n0p0=ni2。區(qū)、N區(qū)和N結(jié)內(nèi)具有統(tǒng)一的費米能級。PN結(jié)的典型工藝方法(1):高溫熔融的鋁冷卻后,高溫熔融的鋁冷卻后,n型硅片上形成高濃型硅片上形成高濃度度Al的的p型型Si薄層。它與薄層。它與n型硅襯底
2、的交界型硅襯底的交界面處就是面處就是PN結(jié)(這時稱為鋁硅合金結(jié))。結(jié)(這時稱為鋁硅合金結(jié))。P型區(qū)中施主型區(qū)中施主雜質(zhì)濃度雜質(zhì)濃度NA,均勻分步均勻分步; n型區(qū)中受主雜質(zhì)濃度型區(qū)中受主雜質(zhì)濃度ND,均勻分布均勻分布;特點:交界面雜質(zhì)濃度發(fā)生突變。特點:交界面雜質(zhì)濃度發(fā)生突變。突變結(jié)突變結(jié)突變結(jié):雜質(zhì)濃度由NA突變到ND,具有這種雜質(zhì)分布的pn結(jié)稱為突變結(jié)。上圖所示,pn結(jié)位置在x=Xj,則突變結(jié)雜質(zhì)分布: xXj,N(x)=Nd 實際上,兩邊雜質(zhì)相差很多,例如n區(qū)雜質(zhì)濃度為1016cm-3,p區(qū)為1019cm-3.通常成這種突變結(jié)為單邊突變結(jié)(這里是P+n結(jié))。雜質(zhì)濃度雜質(zhì)濃度從從p區(qū)到區(qū)到
3、n區(qū)逐漸區(qū)逐漸變化,稱為變化,稱為緩緩變結(jié)變結(jié)。在擴散結(jié)中,若雜質(zhì)分布可用在擴散結(jié)中,若雜質(zhì)分布可用x=Xj處的切線近似表示,則稱為處的切線近似表示,則稱為線線性緩變結(jié)性緩變結(jié),雜質(zhì)分布表示為:,雜質(zhì)分布表示為:PN結(jié)的典型工藝方法(2):在在n型單晶型單晶硅片上擴散硅片上擴散受主雜質(zhì),受主雜質(zhì),形成形成pn結(jié)。結(jié)。雜質(zhì)分布:xNdxXj,NaNd擴散結(jié)擴散結(jié)為Xj處斜率,稱為雜質(zhì)濃度梯度。決定于擴散雜質(zhì)的實際分布,可以用實驗方法測定。但是對于高表面濃度的淺擴散結(jié),Xj處斜率很大,這時擴散結(jié)用突變結(jié)來近似。PN結(jié)的形成機理(1): 在P型半導(dǎo)體和N型半導(dǎo)體結(jié)合后,由于N型區(qū)內(nèi)自由電子為多子空穴
4、幾乎為零稱為少子,而P型區(qū)內(nèi)空穴為多子自由電子為少子,在它們的交界處就出現(xiàn)了電子和空穴的濃度差。 由于自由電子和空穴存在濃度差,有一些電子從N型區(qū)向P型區(qū)擴散,也有一些空穴要從P型區(qū)向N型區(qū)擴散。它們擴散的結(jié)果就使P區(qū)一邊失去空穴,留下了帶負電的雜質(zhì)離子,N區(qū)一邊失去電子,留下了帶正電的雜質(zhì)離子。開路中半導(dǎo)體中的離子不能任意移動,因此不參與導(dǎo)電。 這些不能移動的帶電粒子在P和N區(qū)交界面附近,形成了一個空間電荷區(qū),空間電荷區(qū)的寬度和摻雜物濃度有關(guān)空間電荷區(qū)的寬度和摻雜物濃度有關(guān)。在空間電荷區(qū)形成后,由于正負電荷之間的相互作用,在空間電荷區(qū)形成了內(nèi)電場。內(nèi)電場方向是從帶正電的N區(qū)指向帶負電的P區(qū)。
5、顯然,內(nèi)電場內(nèi)電場的方向與載流子擴散運動的方向相反,阻止多子擴阻止多子擴散散。并且,內(nèi)電場在P、N交界處最強。內(nèi)電場作用促進少子的內(nèi)電場作用促進少子的漂移運動漂移運動,使N區(qū)的少子空穴向P區(qū)漂移,P區(qū)的少子電子向N區(qū)漂移,漂移運動的方向正好與擴散運動的方向相反。從N區(qū)漂移到P區(qū)的空穴補充了原來交界面上P區(qū)所失去的空穴,從P區(qū)漂移到N區(qū)的電子補充了原來交界面上N區(qū)所失去的電子,這就使空間電荷減少,內(nèi)電場減弱。因此,漂移運動的結(jié)果是使空間漂移運動的結(jié)果是使空間電荷區(qū)變窄,擴散運動加強電荷區(qū)變窄,擴散運動加強。最后,多子的擴散和少子的漂移達到動態(tài)平衡。在P型半導(dǎo)體和N型半導(dǎo)體的結(jié)合面兩側(cè),留下離子薄
6、層,這個離子薄層形成的空間電荷區(qū)稱為PN結(jié)。PN結(jié)的內(nèi)電場方向由N區(qū)指向P區(qū)。在空間電荷區(qū)空間電荷區(qū),由于基本上沒有自由載流子,所以也稱耗盡層也稱耗盡層。P、n兩側(cè)空間電荷總數(shù)相同,對外保持整體的電中性。PN結(jié)的形成機理(2):兩個半導(dǎo)體結(jié)合成兩個半導(dǎo)體結(jié)合成pn結(jié)時,電子結(jié)時,電子從費米能級從費米能級高高的的n區(qū)流向費米能區(qū)流向費米能級級低低的的p區(qū)區(qū),空穴,空穴從從p區(qū)流區(qū)流到到n區(qū)區(qū)。EFn不斷下不斷下移(事實上,費米移(事實上,費米能級是隨著能級是隨著n區(qū)能帶下移),區(qū)能帶下移),EFp不斷上移不斷上移,直到直到EFn=Efp。這時這時PN結(jié)具有有結(jié)具有有統(tǒng)一費米能級統(tǒng)一費米能級Ef,
7、PN結(jié)處于結(jié)處于平衡狀態(tài)平衡狀態(tài)PN結(jié)能帶圖結(jié)能帶圖PN結(jié)結(jié)費米能級處處相等費米能級處處相等標志標志PN結(jié)結(jié)達到達到動態(tài)平衡動態(tài)平衡,無擴散、漂移電流流過。無擴散、漂移電流流過。能帶相對移動的原因是能帶相對移動的原因是pn結(jié)空間結(jié)空間電荷區(qū)中存在內(nèi)建電場的結(jié)果。電荷區(qū)中存在內(nèi)建電場的結(jié)果。隨內(nèi)建電場隨內(nèi)建電場(n p)不斷增大,不斷增大,V(x)不斷降低,電子電勢能不斷降低,電子電勢能-q V(x)由由n到到p不斷升高,所以不斷升高,所以P區(qū)能帶整區(qū)能帶整體相對體相對n區(qū)上區(qū)上移,移,n區(qū)能帶整體相區(qū)能帶整體相對對p區(qū)下區(qū)下移,直到移,直到具有統(tǒng)一具有統(tǒng)一費米費米能級,能帶相對移動停止。能級,
8、能帶相對移動停止。動態(tài)平衡時動態(tài)平衡時本征費米能級Ei的變化與電子的電勢能-qV(x)的變化一致,所以:PN結(jié)接觸電勢差如圖所示,在PN結(jié)的空間電荷區(qū)中,能帶發(fā)生彎曲,這是空間電荷區(qū)中電勢能變化的結(jié)果。因為能帶彎曲,電子從勢能低的n區(qū)向勢能高的p區(qū)運動時,必須克服這一勢能“高坡”,才能到達p區(qū),這一勢能“高坡”通常稱為PN結(jié)的勢壘,故空間電荷區(qū)也叫勢壘區(qū)。圖中可知,勢壘高度正好補償了n區(qū)和p區(qū)費米能級之差,使平衡pn結(jié)的費米能級處處相等,因此有:qVD=EFn-EFp。nn0、np0分別為平衡時n、p區(qū)的電子濃度對于非簡并半導(dǎo)體可得:)exp(00TkEEnniFnin)exp(00TkEEn
9、niFpip兩式相除取對數(shù)可得:)(1ln000FpFnpnEETknnAipDnNnnNn200,因為)(ln)(1000pnFpFnDnnqTkEEqV接觸電勢差:平衡平衡時的時的pn結(jié),取結(jié),取p區(qū)電勢為零區(qū)電勢為零,則勢壘區(qū)中一點則勢壘區(qū)中一點x的電勢的電勢V(x)正值,正值, x點的電勢能為點的電勢能為E(x)=-qV(x)對非簡并材料,對非簡并材料, x點的電子濃度點的電子濃度n(x),應(yīng)用第三章計算平衡時導(dǎo),應(yīng)用第三章計算平衡時導(dǎo)帶載流子濃度計算方法帶載流子濃度計算方法 PN結(jié)的載流子分布:)exp()2m(20230*3TkEETkxF因為因為E(x)=-qV(x)DcncnF
10、cnqVETkEENn),exp(00)exp(00TkEEnnxcnnx當(dāng)當(dāng) X=-Xp時,時,V(x)=0,n(-xp)=np0 )exp()(000TkqVnnxnDnppn(-xp)P區(qū)的少數(shù)載流子濃度。區(qū)的少數(shù)載流子濃度。)(exp(00TkqVxqVnDn同理,同理,X點空穴濃度為,點空穴濃度為, )(exp(00TkxqVqVppDnxpn0是平衡時是平衡時n區(qū)的少子濃度區(qū)的少子濃度當(dāng)當(dāng) X=Xn時,時,V(x)=VD,p(xn)=pn0 當(dāng)當(dāng) X=-Xp時,時,V(x)=0,p(-xp)=pp0 )exp()(000TkqVppxpDnpp)exp(000TkqVppDpn)e
11、xp(p0FVV0pTkEEN)(exp()x(00TkxqVqVppDn)(exp()x(n00TkqVxqVnDnX處電子濃度:X處空穴濃度:平衡半導(dǎo)體中pn結(jié)中載流子分布勢壘區(qū)載流子濃度的估計:)(exp()exp(0000TkqVxqVnTkEEnnDnxcnnx如設(shè)勢壘高度為0.7eV,則該處空穴濃度為:))x(exp()(exp(0000TkqVpTkxqVqVpppDnx由上述數(shù)據(jù)可以看出,對于絕大多數(shù)勢壘區(qū),其中雜質(zhì)雖然的都已電離,但是載流子濃度想對于n區(qū)和p區(qū)的多子濃度小得多,好像已經(jīng)耗盡了。所以通常稱勢壘區(qū)為耗盡層,即認為其中載流子濃度很小,可以忽略不計,所以,空間電荷密度
12、就等于電離雜質(zhì)密度。pn結(jié)的單向?qū)щ娦?平衡pn結(jié)中,每一種載流子的擴散電流和漂移電流相抵消,沒有凈電流通過pn結(jié),想應(yīng)的在pn結(jié)中費米能級處處相等。 如果在pn結(jié)兩端外加電壓,就會破壞原來的平衡狀態(tài),此時,擴散電流和漂移電流不再相等,因而pn結(jié)中將有電流通過。當(dāng)外加電壓極性不同時,pn結(jié)將表現(xiàn)出截然不同的導(dǎo)電特性,即呈現(xiàn)出單向?qū)щ娦?。外加正向電壓下,pn結(jié)勢壘變化和載流子運動:正向偏壓在勢壘區(qū)產(chǎn)生了與內(nèi)電場方向相反的電場,將多子推向勢壘區(qū),使其寬度減小,削弱了勢壘區(qū)的電場強度,破壞了原來的平衡,使擴散運動加劇,漂移運動減弱。勢壘區(qū):載流子濃度很小,電阻很大;勢壘外:載流子濃度很大,電阻很小,
13、所以外加電壓主要降在勢壘區(qū)。勢壘高度從qVD降到q(VD-V)。加正向偏壓時,電子擴散n p,空穴擴散p n;電子通過勢壘區(qū)在邊界PP處積累,PP處電子濃度大于P區(qū)電子濃度,形成向P區(qū)的電子擴散流。 (空穴一樣)非平衡少子在擴散過程中,不斷與多子復(fù)合,直到復(fù)合完畢,這段區(qū)域稱為擴散區(qū)域。在正向偏壓一定時,單位時間從n區(qū)擴散到PP處的非平衡少子濃度是一定的,并在擴散區(qū)形成穩(wěn)定的分布,因此非平衡少子擴散流不變。增大正向偏壓時,勢壘降得更低,增大了流入p區(qū)的電子流和流入n區(qū)的空穴流。通過pn結(jié)的總電流=通過邊界PP的電子擴散電流+通過邊界nn的空穴擴散電流非平衡載流子的電注入非平衡載流子的電注入:正
14、向偏壓使非平衡載流子:正向偏壓使非平衡載流子進入半導(dǎo)體的過程。進入半導(dǎo)體的過程。正向偏壓下正向偏壓下pn結(jié)的能帶圖結(jié)的能帶圖在正向偏壓下在正向偏壓下,p、n區(qū)均有非平衡少子注入,必須用區(qū)均有非平衡少子注入,必須用準費米能級準費米能級EFn、EFp代替平衡時的統(tǒng)一費米能級代替平衡時的統(tǒng)一費米能級能帶特征:能帶特征:1.EFp 在在p區(qū)及勢壘區(qū)及勢壘區(qū)為水平線,在空區(qū)為水平線,在空穴擴散區(qū)穴擴散區(qū)(nn到到Lp區(qū)區(qū))為為斜線斜線;2. EFn 在在n區(qū)及勢壘區(qū)及勢壘區(qū)為水平線,在電區(qū)為水平線,在電子擴散區(qū)子擴散區(qū)(pp到到Ln區(qū)區(qū))為為斜線斜線;EFp 、Efn在擴散區(qū)為斜線的原因:在擴散區(qū)為斜線的原因:由于復(fù)由于復(fù)合,存在濃度梯度,電子、空穴濃度逐漸合,存在濃度梯度,電子、空穴濃度逐漸減小減小正向偏壓下的特征:正向偏壓下的特征:1.P、n區(qū)具有各自的費區(qū)具有各自的費米能級米能級Efn、Efp;2. 有凈電流流過有凈電流流過pn結(jié);結(jié);3. 正向偏壓下,勢壘降正向偏壓下,勢壘降低低qV;4.qV=Efn-Efp;5.Efn位置高于位置高于 EFP外加反向電壓下,pn結(jié)勢壘變化和載流子運動:反向偏壓在勢壘區(qū)產(chǎn)生的電場與內(nèi)建電場一致,勢壘區(qū)的電場增強,勢壘區(qū)變寬,勢壘高度從qVD降到q(VD+V)。外電場使空間電荷區(qū)加寬,加強了內(nèi)電場,阻止多子擴散運動,加劇少子漂移運動,使漂
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 人人文庫網(wǎng)僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 2025-2030年中國鍍膜玻璃市場發(fā)展動態(tài)及投資規(guī)劃研究報告
- 2025-2030年中國鋰精礦行業(yè)競爭格局規(guī)劃分析報告
- 2025-2030年中國鉑金首飾市場運營狀況及發(fā)展前景分析報告
- 2025-2030年中國箱紙板行業(yè)運行動態(tài)與發(fā)展建議分析報告
- 2025貴州省建筑安全員C證考試題庫
- 2025-2030年中國硫氰酸鈉市場運營現(xiàn)狀及發(fā)展規(guī)劃分析報告
- 撫順職業(yè)技術(shù)學(xué)院《安裝工程計量與計價》2023-2024學(xué)年第二學(xué)期期末試卷
- 伊春職業(yè)學(xué)院《平面制圖設(shè)計》2023-2024學(xué)年第二學(xué)期期末試卷
- 隨州職業(yè)技術(shù)學(xué)院《科技文本翻譯》2023-2024學(xué)年第二學(xué)期期末試卷
- 中職歷史教學(xué)計劃
- NB-T+10499-2021水電站橋式起重機選型設(shè)計規(guī)范
- 六年級美術(shù)下冊全冊教案(浙美版)
- JT∕T 795-2023 事故汽車修復(fù)技術(shù)規(guī)范
- 湘教版二年級下冊美術(shù)教案
- 天津在津居住情況承諾書
- 2022年中考數(shù)學(xué)二輪專題復(fù)習(xí):二次函數(shù)性質(zhì)綜合題
- 男生青春期生理教育
- 現(xiàn)代漢語(黃伯榮、廖序東版)課件-第四章語法課件
- 統(tǒng)編版小學(xué)語文五年級下冊第四單元解讀與大單元設(shè)計思路
- 壓瘡護理質(zhì)控反饋
評論
0/150
提交評論