2021年全球光刻膠行業(yè)現(xiàn)狀與競爭格局分析

2021年全球光刻膠行業(yè)現(xiàn)狀與競爭格局分析一、光刻膠行業(yè)發(fā)展概述起源于美國，柯達KTFR光刻膠為光刻膠工業(yè)的開創(chuàng)者，光刻膠跟隨摩爾定律不斷演進。1950s貝爾實驗室嘗試開發(fā)首塊集成電路，半導體光刻膠由此誕生，并成為六七十年代半導體工業(yè)的主力體系，為半導體工業(yè)發(fā)展立下汗馬功勞。邏輯支撐跟隨摩爾定律，光刻膠不斷推進產業(yè)演進。i線/g線光刻膠的產業(yè)化始于上世紀70年代，KrF光刻膠的產業(yè)化也早在上世紀80年代就由IBM完成。光刻膠行業(yè)發(fā)展歷程新材料在線，光刻膠是半導體，面板，PCB等領域加工制造中的關鍵材料。光刻膠是由樹脂，感光劑，溶劑，光引發(fā)劑等組成的混合液態(tài)感光材料。光刻膠應用的原理是利用光化學反應，經光刻工藝將所需要的微細圖形轉移到加工襯底上，來達到在晶圓上刻蝕出所需的圖形或抗離子注入的目的。光刻膠行業(yè)分類二、光刻膠行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀光刻膠領域全球具有百億市場。2021年全球光刻膠市場規(guī)模約為19億美元，預計2022年將達到21。34億美元，同比增長12。32%。2021-2022年全球光刻膠市場規(guī)模及預測情況光刻膠是集成電路制造必不可少的關鍵原材料。2021年中國集成電路產業(yè)首次突破萬億元。中國半導體行業(yè)協(xié)會統(tǒng)計，2021年中國集成電路產業(yè)銷售額達到10458。3億元，同比增長18。2%。2017-2021年中國集成電路產業(yè)銷售額及增速三、光刻膠行業(yè)發(fā)展政策政策頻出，為浪潮推波助瀾：光刻膠是集成電路領域微加工的關鍵性材料，為推動光刻膠等半導體材料行業(yè)的發(fā)展，國家、地方層面政策先后出臺。其中，既有國家層面印發(fā)的戰(zhàn)略性、鼓勵性、支持性政策等，也有各個省市進一步落實國家政策發(fā)布的規(guī)劃、意見、指導目錄等。尤其在中美貿易沖突的影響下，產業(yè)供應鏈安全和自主可控成為重中之重，迫在眉睫，乃行業(yè)發(fā)展的大勢所趨。2014-2021年中國光刻膠行業(yè)相關政策四、光刻膠行業(yè)競爭格局目前全球的光刻膠生產企業(yè)主要集中在日本與美國，在最為尖端的ArF干法光刻膠、ArF浸沒式光刻膠和EUV光刻膠產品領域，日本與美國廠商擁有絕對的壟斷地位，而中國在這些尖端半導體光刻膠產品上雖有一定的技術儲備和產品驗證，但是在量產層面完全處于空白。2021年全球主要企業(yè)半導體光刻膠發(fā)展情況從全球市場來看，2021年行業(yè)CR6約為88%，市場集中度高。東京應化、JSR、住友化學、富士膠片四大日本企業(yè)分別占據(jù)27%、13%、12%、8%的市場份額，陶氏化學占據(jù)17%的市場份額，韓國東進占據(jù)11%的市場份額。2021年全球光刻膠市場份額在ArF光刻膠方面，2021年行業(yè)CR6達94%，市場高度集中。JSR、信越化學、東京應化、住友化學、富士膠片、陶氏化學分別占據(jù)24%、23%、20%、15%、8%、4%的市場份額。2021年ArF光刻膠市場份額中國大陸晶圓產能近年將明顯提升。截至2021年，中國內地12英寸、8英寸和6英寸及以下的晶圓制造線共有210條，已經投產的12英寸晶圓制造線有29條，合計裝機月產能約131萬片。截至2021年，中國大陸在全球晶圓產能中的份額達到16%，僅次于韓國和中國臺灣地區(qū)。隨著下游產能的快速增長，預計光刻膠市場亦將持續(xù)擴容。2021年全球IC晶圓產能地區(qū)分布ICInsights，中國大陸晶圓廠光刻機以進口為主，多購入壁壘相對較低、價格相對便宜的i線光刻機。目前國內頭部光刻膠生產企業(yè)中，已有3家成功購入ASML光刻機二手設備，用于研發(fā)ArF高端光刻膠，有望實現(xiàn)先進制程的突破。國內部分光刻膠生產企業(yè)購入高端光刻機情況各公司公告，五、光刻膠行業(yè)發(fā)展建議為加快光刻膠國產化進程，實現(xiàn)自主可控，針對國內光刻膠研發(fā)、生產現(xiàn)狀提出幾點發(fā)展建議：1、政府主導整合上游、中游、下游相關企業(yè)，給予稅收、資金等優(yōu)惠政策，鼓勵企業(yè)加大研發(fā)投入；政府設立半導體產業(yè)鏈研發(fā)中心，加速各環(huán)節(jié)卡脖子技術研發(fā)進度；政府機構簡化企業(yè)技術中試審批流程，優(yōu)先推廣有潛力產品，做到產品在產線上使，在產線上優(yōu)化。2、加強校企聯(lián)合研發(fā)，在高校中設立獎學金獎勵大學生參與光刻膠相關研發(fā)項目，調整授課內容，積極培育專門人才。3、提高電子化學品領域研發(fā)、生產人員工資待遇，解決人員