標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 21636-2008 微束分析 電子探針顯微分析(EPMA) 術(shù)語(yǔ)》是中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)之一,主要針對(duì)電子探針顯微分析領(lǐng)域內(nèi)的專業(yè)術(shù)語(yǔ)進(jìn)行了定義和規(guī)范。該標(biāo)準(zhǔn)的制定旨在統(tǒng)一行業(yè)內(nèi)對(duì)于相關(guān)概念的理解與使用,促進(jìn)技術(shù)交流和技術(shù)文檔的一致性。

標(biāo)準(zhǔn)中涵蓋了從基本原理到具體操作方法、設(shè)備組件等多個(gè)方面的術(shù)語(yǔ),包括但不限于電子束與樣品相互作用產(chǎn)生的信號(hào)類型(如二次電子、背散射電子、特征X射線等)、探測(cè)器種類及其工作原理、定量分析方法(如ZAF修正法)以及圖像處理技術(shù)等。通過(guò)這些定義,使用者能夠準(zhǔn)確地理解每項(xiàng)技術(shù)和過(guò)程中所涉及的專業(yè)詞匯含義,有助于提高科研報(bào)告、學(xué)術(shù)論文及日常溝通中的表達(dá)精確度。


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  • 2008-04-11 頒布
  • 2008-10-01 實(shí)施
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GB/T 21636-2008微束分析電子探針顯微分析(EPMA)術(shù)語(yǔ)_第1頁(yè)
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文檔簡(jiǎn)介

犐犆犛01.040.71;71.040.99

犌04

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

犌犅/犜21636—2008/犐犛犗23833:2006

微束分析

電子探針顯微分析(犈犘犕犃)術(shù)語(yǔ)

犕犻犮狉狅犫犲犪犿犪狀犪犾狔狊犻狊—

犈犾犲犮狋狉狅狀狆狉狅犫犲犿犻犮狉狅犪狀犪犾狔狊犻狊(犈犘犕犃)—犞狅犮犪犫狌犾犪狉狔

(ISO23833:2006,IDT)

20080411發(fā)布20081001實(shí)施

中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局

發(fā)布

中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

書(shū)

犌犅/犜21636—2008/犐犛犗23833:2006

前言

本標(biāo)準(zhǔn)等同采用國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)ISO23833:2006《微束分析電子探針顯微分析(EPMA)術(shù)語(yǔ)》

(英文版)。

為了便于使用,本標(biāo)準(zhǔn)做了下列編輯性修改:

———5.7.5的注中對(duì)ISO23833:2006勘誤將“犣>43”改為“犣>4”;

———?jiǎng)h除了法文版。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出并歸口。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:林卓然、李香庭、李戎、朱衍勇、莊世杰、柳得櫓。

書(shū)

犌犅/犜21636—2008/犐犛犗23833:2006

引言

電子探針顯微分析(EPMA)是微束分析技術(shù)中一個(gè)應(yīng)用極為廣泛的領(lǐng)域,是在高技術(shù)產(chǎn)業(yè)、基礎(chǔ)工

業(yè)、農(nóng)業(yè)、冶金、地質(zhì)、生物、醫(yī)藥衛(wèi)生、環(huán)境保護(hù)、商檢貿(mào)易乃至刑事法庭等行業(yè)中需要通過(guò)各種材料或

產(chǎn)品的微米尺度成分和結(jié)構(gòu)分析來(lái)進(jìn)行質(zhì)量管理和質(zhì)量檢驗(yàn)所不可缺少的技術(shù)手段。

電子探針顯微分析(EPMA)是一門(mén)綜合性的技術(shù),涉及物理、化學(xué)、電子學(xué)等廣泛術(shù)語(yǔ)。本標(biāo)準(zhǔn)只

限于定義電子探針顯微分析(EPMA)標(biāo)準(zhǔn)化實(shí)踐中使用和直接有關(guān)的術(shù)語(yǔ),其內(nèi)容包括:

電子探針顯微分析用一般術(shù)語(yǔ)定義;

描述電子探針顯微分析儀器的術(shù)語(yǔ)定義;

用于電子探針顯微分析方法的術(shù)語(yǔ)定義。

本標(biāo)準(zhǔn)是微束分析技術(shù)領(lǐng)域中為了適應(yīng)電子探針顯微分析(EPMA)標(biāo)準(zhǔn)化實(shí)踐的基本需要而制定

的第一個(gè)術(shù)語(yǔ)標(biāo)準(zhǔn)。掃描電子顯微鏡(SEM),分析電子顯微鏡(AEM),X射線能譜儀(EDS)等其他領(lǐng)

域的術(shù)語(yǔ)標(biāo)準(zhǔn)也會(huì)相繼制定。

犌犅/犜21636—2008/犐犛犗23833:2006

微束分析

電子探針顯微分析(犈犘犕犃)術(shù)語(yǔ)

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)定義了電子探針顯微分析(EPMA)實(shí)踐中使用的術(shù)語(yǔ),包括一般概念的術(shù)語(yǔ)和按技術(shù)等級(jí)

分類的具體概念的術(shù)語(yǔ)。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于所有有關(guān)電子探針顯微分析(EPMA)實(shí)踐的標(biāo)準(zhǔn)化文件,部分適用于相關(guān)領(lǐng)域[例如:

掃描電子顯微鏡(SEM),分析電子顯微鏡(AEM),X射線能譜儀等]的標(biāo)準(zhǔn)化文件,用于定義共用的術(shù)語(yǔ)。

2縮略語(yǔ)

BSEbackscatteredelectron背散射電子

CRMcertifiedreferencematerial有證參考物質(zhì)、標(biāo)準(zhǔn)樣品

EDSenergydispersivespectrometer能譜儀

EDXenergydispersiveXrayspectrometry能譜法

EPMAelectronprobemicroanalysisorelectronprobemi電子探針顯微分析或電子探針顯微

croanalyzer分析儀

eVelectronvolt電子伏特

keVkiloelectronvolt千電子伏特

SEsecondaryelectron二次電子

SEMscanningelectronmicroscope掃描電子顯微鏡

WDSwavelengthdispersivespectrometer波譜儀

WDXwavelengthdispersiveXrayspectrometry波譜法

3電子探針顯微分析用一般術(shù)語(yǔ)定義

3.1

電子探針顯微分析犲犾犲犮狋狉狅狀狆狉狅犫犲犿犻犮狉狅犪狀犪犾狔狊犻狊;犈犘犕犃

根據(jù)聚焦電子束與試樣微米至亞微米尺度的體積相互作用激發(fā)X射線的譜學(xué)原理,對(duì)電子激發(fā)體

積內(nèi)的元素進(jìn)行分析的技術(shù)。

3.1.1

定性電子探針顯微分析狇狌犪犾犻狋犪狋犻狏犲犈犘犕犃

通過(guò)標(biāo)識(shí)X射線譜峰的方法來(lái)鑒別試樣電子激發(fā)體積中元素組成的電子探針顯微分析方法。

3.1.2

定量電子探針顯微分析狇狌犪狀狋犻狋犪狋犻狏犲犈犘犕犃

對(duì)電子束激發(fā)區(qū)定性分析所鑒定的元素進(jìn)行濃度測(cè)定的電子探針顯微分析方法。

注:定量分析可以在相同條件下,對(duì)測(cè)量的未知試樣X射

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