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分光性質(zhì):振幅分割兩個干涉的點源:

兩個反射面對S點的象S1和S2

§12-4平板的雙光束干涉11.條紋定域:能夠得到清晰干涉條紋的區(qū)域。一、干涉條紋的定域2.平板干涉的優(yōu)點,取

,用面光源。非定域條紋:在空間任何區(qū)域都能得到的干涉條紋。定域條紋:只在空間某些確定的區(qū)域產(chǎn)生的干涉條紋。2二、平行平板(Plane-ParallelPlates)干涉(等傾干涉Interferenceofequalinclination)1.光程差計算nn'3nn'phasechangeNophasechange4Sincetheintervalbetweenthetwosurfacesmaybeanactualplateorfilm,oritmaybeagapbetweenplates.Wehavefourpossibilities,asthefollowing.NoNoNoNo52.平板干涉裝置

注意:采用擴展光源,條紋域在無窮遠。

條紋成像在透鏡的焦平面上。63、條紋分析(Fringesofequalinclination)l(光程差與條紋級數(shù))=中心lomnh=+D22(最大干涉級在中心。時最大,=)光程差在q021

78中央條紋寬,邊緣條紋窄。(5)反射光條紋和透射光條紋互補9二、楔形平板干涉(等厚干涉Interferenceofequalthickness)圖11-16用擴展光源時楔行平板產(chǎn)生的定域條紋a)定域面在板上方b)定域面在板內(nèi)c)定域面在板下方SPb)SPa)SPc)1)定域面的位置由=0確定2)光源與楔板位置不同時的定域面位置103)楔板的角度越小,定域面離板越遠,當(dāng)平行時,定域面在無限遠處;4)在實際工作中,不一定為0,干涉條紋不只局限于定域面上,而是在定域面前后一定范圍內(nèi)可以看到干涉條紋,這個區(qū)域稱為定域深度。5)條紋觀察:定域面隨系統(tǒng)不同而不同,觀察不便,由于人眼有自動調(diào)焦功能,觀察比儀器方便。11圖11-18楔形平板的干涉θ2ACSPBβ=0θ1nn'n'2、光程差計算12垂直入射時,光程差是厚度

h的函數(shù),在同一厚度的位置形成同一級條紋。13(1)對于折射率均勻的楔形平板,條紋平行于楔棱14Dh(2)兩條紋間厚度的變化15(3)(4)a16§12-5典型的雙光束干涉系統(tǒng)及其應(yīng)用

一、典型干涉系統(tǒng)1、斐索(Fizeau)干涉儀:等厚干涉型的干涉儀L3GL2PQL1激光平面干涉儀1)激光平面干涉儀的組成和工作原理17a2)主要用途?測定平板表面的平面度和局部誤差?測量平行平板的平行度和小角度光楔的楔角?測量透鏡的曲率半徑18?測量平行平板的平行度和小角度光楔的楔角L3GL2QL1激光平面干涉儀a19球面干涉儀PLQDhR1R2PQ?測量透鏡的曲率半徑20小結(jié):基本特點:(1)屬于等厚干涉(2)干涉光束,一個來自標(biāo)準(zhǔn)反射面,一個來自被測面。重點掌握:(1)光程差與厚度的關(guān)系。(2)厚度變化與條紋彎曲方向的關(guān)系。(3)干涉面間距變化與條紋移動的關(guān)系。條紋分析:212、邁克爾遜干涉儀(TheMichelsoninterferometer)ExtendedsourceBeamsplitterReflectivecoatingMirrorCompensatingplate1)干涉儀結(jié)構(gòu)分光板和補償板平面反射鏡干涉原理2)干涉條紋的性質(zhì)等厚干涉等傾干涉22DS特點:M1和M2垂直時是等傾干涉,否則為等厚干涉。掌握:(1)系統(tǒng)結(jié)構(gòu),(2)M1或M2垂直于光線移動時對條紋的影響233、泰曼干涉儀(Twymaninterferometer)特點:在邁克爾遜干涉儀的一個光路中加入了被測光學(xué)器件ContourlinesFringesofequalthickness244、馬赫-曾德干涉儀(Mach-Zehnderinterferometer)測量光一次通過被測域Itispreferredtomeasuringlargetransparentobjects.2)干涉儀結(jié)構(gòu)1)應(yīng)用場合和測量的基本原理3)條紋性質(zhì)分析25二、其他干涉技術(shù)1、數(shù)字波面干涉術(shù)目的:產(chǎn)生移動的干涉條紋,用光電器件探測條紋的變化?;驹恚豪霉鈱W(xué)拍頻中干涉條紋強度隨時間變化的性質(zhì)。外差干涉原理頻率偏移器ABP26tI(x,y,t)條紋是隨時間變化的量。27ABtITt282、傅里葉變換光譜儀原理:利用光源的相干長度對條紋可見度的影響,測量光源的光譜分布。相干長度:光譜寬度為Dl的光源能夠產(chǎn)生干涉的最大光程差設(shè):I0(k)為隨波數(shù)而變化的譜密度函數(shù)

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