第7章 proe編輯特征

第7章編輯特征

本章導讀本章內(nèi)容理論學習1在建模過程中創(chuàng)建的一些零件并不一定能夠完全符合要求，此時需要通過特征編輯對特征進行修改，以符合最終設(shè)計要求。如可通過編輯修改、重定義、插入和重新排序等操作，改變實體的模型效果。此外還可以對特征進行復制、鏡像和陣列等操作，快速創(chuàng)建大量相同或類似的特征。2本章導讀7.1復制特征7.2鏡像特征7.3陣列特征7.4編輯和修改特征7.5特征操作7.6使用組7.7動態(tài)編輯容錯性7.8案例1：創(chuàng)建跳棋棋盤7.9案例2：創(chuàng)建電話機底座面板7.10上機練習3本章內(nèi)容復制特征是將現(xiàn)有特征復制并粘貼到同一模型的不同位置或兩個不同模型上。粘貼特征：利用該工具可以重新選取草繪平面或放置參照，重定義特征的放置位置和大小。選擇性粘貼特征：利用該工具可以將復制的特征沿指定的參照方向或沿某條線性邊、軸線或曲面的法向進行平移，也可以將復制的特征繞某個軸進行旋轉(zhuǎn)。4

7.1復制特征鏡像特征是以一平面為對稱中心對稱復制出所選特征。對稱中心：可以選取基準平面、實體上的平面和任意形狀的平整面。7.2鏡像特征1.使用右工具箱中的鏡像圖標按鈕。2.使用【編輯】主菜單下的【鏡像】選項3.使用【復制特征】菜單下的【鏡像】選項鏡像特征的三種方式：創(chuàng)建以下鏡像特征：7.2鏡像特征特征陣列是一種高效率的特征復制方式。該方法，可以快速地在模型上創(chuàng)建出多個與原始特征結(jié)構(gòu)相同且位置上排列規(guī)則的副本特征。這些副本特征通常被稱作是原始特征的一組實例特征。7.3陣列特征陣列特征受到陣列參數(shù)的影響與控制。包括：陣列實例的數(shù)目實例間的距離原始特征的尺寸參數(shù)等。通過改變陣列參數(shù)可獲得不同的陣列效果。創(chuàng)建陣列時，可以對一個特征進行陣列，也可以對多個特征進行陣列。7.3陣列特征選取【編輯項】－【陣列】，或在右工具箱中單擊陣列圖標按鈕，或在原始特征右鍵菜單中選取【陣列】選項，系統(tǒng)打開陣列操控板：特征陣列操控板六種陣列方法：尺寸陣列方向陣列軸陣列表陣列參照陣列填充陣列點陣列【相同】：實例特征與原始特征尺寸相同，放置在同一平面內(nèi)，且實例特征不能超出放置平面的范圍，同時各個特征之間也不允許出現(xiàn)干涉?！究勺儭浚簩嵗卣髋c原始特征的尺寸及放置平面均可有變化，但各特征間不允許有干涉。

【一般】：缺省選項。實例特征與原始特征的尺寸及放置平面均可不同，并且特征之間也允許有干涉?！具x項】面板選項：尺寸陣列是常用的特征陣列方法，它通過分別定義驅(qū)動尺寸和尺寸增量來創(chuàng)建陣列特征。根據(jù)設(shè)計的需要，可選取一個方向的尺寸作為驅(qū)動尺寸，創(chuàng)建一維陣列。也可分別選取兩個方向的尺寸均作為驅(qū)動尺寸，創(chuàng)建二維陣列。當驅(qū)動尺寸為角度尺寸時，還可指定角度增量，獲得圓周分布的旋轉(zhuǎn)陣列。1.尺寸陣列（后續(xù)）

zhenlie9-1.prtzhenlie9-1-2.prt

以下使用尺寸陣列方法創(chuàng)建一維陣列（相同陣列方式）和二維陣列（一般陣列方式）。

1.尺寸陣列（后續(xù)）

以下使用尺寸陣列方法創(chuàng)建二維旋轉(zhuǎn)陣列。

1.尺寸陣列（完了）

方向陣列主要用于創(chuàng)建線性陣列。它可以通過選定陣列的方向參照來確定陣列的方向，從而避免尺寸陣列方法對尺寸的過分依賴?？勺鳛榉较騾⒄盏挠校浩矫妗⒒鶞瘦S、實體邊線、線性曲線和坐標系等。152.方向陣列

以下使用方向陣列方法創(chuàng)建二維線性陣列：2.方向陣列

3.軸陣列軸陣列方式可以創(chuàng)建一維或二維旋轉(zhuǎn)陣列。創(chuàng)建一維旋轉(zhuǎn)陣列時，只需選取一條軸線作為參照，并設(shè)定陣列特征總數(shù)及角度尺寸增量即可。創(chuàng)建二維旋轉(zhuǎn)陣列時，還需要給定沿徑向方向的陣列特征總數(shù)及尺寸增量。缺省情況，角度方向上的陣列特征沿逆時針方向均勻分布，徑向陣列方向遠離軸線方向。需要改變陣列方向，可在操控板中，選取調(diào)整陣列方向圖標按鈕，或在尺寸增量文本框中輸入負值。軸陣列方式可以創(chuàng)建一維或二維旋轉(zhuǎn)陣列。創(chuàng)建一維旋轉(zhuǎn)陣列時，只需選取一條軸線作為參照，并設(shè)定陣列特征總數(shù)及角度尺寸增量即可。創(chuàng)建二維旋轉(zhuǎn)陣列時，還需要給定沿徑向方向的陣列特征總數(shù)及尺寸增量。缺省情況，角度方向上的陣列特征沿逆時針方向均勻分布，徑向陣列方向遠離軸線方向。需要改變陣列方向，可在操控板中，選取調(diào)整陣列方向圖標按鈕，或在尺寸增量文本框中輸入負值。183.軸陣列

以下使用軸陣列方法分別創(chuàng)建一維旋轉(zhuǎn)陣列、二維旋轉(zhuǎn)陣列。3.軸陣列

203.軸陣列

圖

零件模型

圖設(shè)定軸陣列參數(shù)圖創(chuàng)建的軸陣列特征4.填充陣列

使用填充陣列方式可以在選定的區(qū)域內(nèi)，按照選定的填充格式（柵格模板）和填充參數(shù)（陣列實例間距、陣列實例與填充邊界的最小距離、柵格繞原點的旋轉(zhuǎn)角度等）來創(chuàng)建陣列特征。系統(tǒng)提供的填充格式或柵格模板有六種：正方形、菱形、三角形、圓、曲線和螺旋。

以下使用填充陣列方法分別創(chuàng)建圓形填充陣列和曲線填充陣列：224.填充陣列表陣列是以表格的方式設(shè)置陣列特征的空間位置和尺寸來創(chuàng)建陣列特征，可以創(chuàng)建位置分布不規(guī)則的復雜陣列特征，并且在陣列表中可隨時對每個子特征進行單獨定義。235.表陣列

以下使用表陣列方法分別創(chuàng)建由不同表驅(qū)動的陣列特征：5.表陣列

255.表陣列

圖9.24顯示特征尺寸值圖9.26創(chuàng)建的表陣列特征

圖9.25輸入子特征參數(shù)參照陣列是當模型中已有一個陣列特征時，可以創(chuàng)建針對該陣列的一個參照陣列。其中參照陣列的特征必須與已有陣列的源實體之間具有定義的尺寸關(guān)系，并且所創(chuàng)建的參照陣列數(shù)與源陣列數(shù)是相等的。。如果新增特征屬于如：倒角、倒圓角等無法用其它方式進行陣列的特征類型，系統(tǒng)自動采用【參照】陣列類型進行陣列。否則，系統(tǒng)將打開陣列操控板，由操作者選取合適陣列類型。266.參照陣列參照陣列示例一參照陣列示例二

6.參照陣列286.參照陣列零件模型參照陣列特征曲線陣列表示可沿所指定的軌跡曲線創(chuàng)建陣列特征。297.曲線陣列零件模型草繪陣列曲線創(chuàng)建的曲線陣列特征點陣列是將源特征沿著現(xiàn)有的點或重新草繪的點進行陣列。308.點陣列7.4.1編輯尺寸7.4.2編輯定義7.4.3編輯參照7.4編輯和修改特征修改尺寸值：設(shè)置尺寸屬性：包括設(shè)置屬性、尺寸文本和文本樣式7.4.1編輯尺寸通過編輯功能可以修改特征的外形尺寸，但無法修改特征的截面形狀和尺寸關(guān)系等。當需要對特征進行較為全面的修改時，可以通過編輯定義來實現(xiàn)。7.4.2編輯定義在修改特征時，有時需要保留子特征而刪除或編輯父特征。此時便需要通過重定義參照斷開它們之間的“父子”關(guān)系，才能既編輯父特征又不影響子特征。7.4.3編輯參照7.5.1特征的復制操作7.5.2特征重新排序7.5.3特征插入操作7.5特征操作鏡像復制特征旋轉(zhuǎn)復制特征平移復制特征相同參考復制新參考復制7.5.1特征的復制操作特征復制方法可以快速復制模型上已有的特征。在復制特征的同時，可以對設(shè)計內(nèi)容（特征參照、特征的尺寸值以及特征的放置位置）等進行修改和重定義，從而獲得與原有特征在形狀上相同或相似、位置上有一定變化或較大變化的新特征。7.5.1特征的復制操作（1）選取特征復制的方法（2）選取欲復制的特征（3）選取復制特征的定位參照（4）修改復制特征的定形參數(shù)38特征復制一般步驟

以下使用【鏡像】復制方式創(chuàng)建如圖所示復制孔特征：

1.以【鏡像】方式復制特征移動復制方式包括平移和旋轉(zhuǎn)兩種功能。特征復制時需要給出特征的移動方向（或旋轉(zhuǎn)方向）和移動距離（或旋轉(zhuǎn)角度）。2.以【移動】方式復制特征

以下使用【移動】特征復制方式創(chuàng)建如圖圖示平移、旋轉(zhuǎn)以及旋轉(zhuǎn)加平移復制特征：原有特征原有特征平移特征原有特征旋轉(zhuǎn)特征

以下使用【新參考】特征復制方式在模型的鄰側(cè)復制出耳狀特征：

3.以【新參考】方式創(chuàng)建復制特征

原有特征復制特征

以下使用【相同參考】特征復制方式創(chuàng)建如圖所示復制孔特征：

4.以【相同參考】方式創(chuàng)建復制特征

原有特征復制特征

特征順序是指特征出現(xiàn)在模型樹中的順序。重新排列各特征的創(chuàng)建順序，可以增加設(shè)計的靈活性。注意：特征間的父子關(guān)系，其中父特征不能移動到子特征之后，子特征也不能移動到父特征之前。通常情況下只調(diào)整相互獨立的多個特征之間的順序。447.5.2特征重新排序

重排特征順序時，可以采用兩種方法：（1）單擊主菜單【編輯】→【特征操作】，在“菜單管理器”中的【特征】菜單中單擊【重新排序】，彈出【選取】菜單，選取要重新排序的特征和要放置的位置，即可實現(xiàn)特征順序重排。（2）在模型樹中選定要排序的特征，并拖動至合適位置，放開鼠標即可完成特征順序重排。457.5.2特征重新排序467.5.2特征重新排序重新排序如果試圖將一個子特征移動到比其父特征更高的位置，父特征將隨子特征相應移動，且保持父/子關(guān)系。此外，如果將父特征移動到另一位置，子特征也將隨父特征相應移動，以保持父/子關(guān)系。范例：47注意：使用Pro/E進行建模時，新建的特征會排在已有特征之后。當我們需要在已有特征之間添加一個或多個特征時，可以使用插入特征的方法。插入特征的操作方法有兩種(charu.prt)：（1）單擊【編輯】→【特征操作】，在“菜單管理器”中的【特征】菜單中單擊【插入模式】，在【插入模式】菜單中選【激活】，彈出【選取】菜單，選取要在其后插入特征的特征，就可進行插入操作。（2）在模型樹中選取“在此插入”前的紅色箭頭，按住鼠標左鍵將其拖至欲插入特征的位置。插入完成后再將其拖回最下方。487.5.3特征插入操作范例(charu2.prt)：49進入插入模式插入拔模特征退出插入模式組是系統(tǒng)提供的一種有效的特征組織方法，其中每個組由數(shù)個在模型樹中順序相連的特征構(gòu)成。通過組可以將多個具有關(guān)聯(lián)關(guān)系的特征歸并到一個組里，從而減少模型樹中的節(jié)點數(shù)目。7.6.1創(chuàng)建與分解組7.6.2陣列與復制組507.6使用組

可以采用以下兩種方法建立組：1.使用右鍵快捷菜單在圖形區(qū)或模型樹上，按住Ctrl鍵，選取欲放在一個局部組中的多個特征（必須是模型樹中相鄰的特征），單擊右鍵，在右鍵快捷菜單中選取【組】選項，創(chuàng)建一個特征組。2.使用【編輯】主菜單在圖形區(qū)或模型樹上，按住Ctrl鍵，選取欲放在一個局部組中的多個特征，然后單擊【編輯】→【組】，創(chuàng)建一個特征組。517.6.1創(chuàng)建與分解組52創(chuàng)建組：(a)選擇組合對象(b)選擇“組”命令(c)特征組合創(chuàng)建組特征要想分解組，可以右鍵單擊組特征，在彈出的快捷菜單中選擇“分解組”即可將其分解。如圖所示。53分解組(a)選擇“分割組”命令(b)分割組特征后圖分割組特征54范例一個組可以看作一個特征，所以其陣列與復制的方法與特征類似。557.6.2陣列與復制組動態(tài)編輯指實時預覽、動態(tài)更新。當動態(tài)編輯某一特征時，除該特征進行實時更新外，與該特征相關(guān)的其他特征也將動態(tài)更新。容錯性設(shè)計是是指特征創(chuàng)建失敗時，不再打開【修復】對話框，而將出錯的