《鈣鈦礦涂布機(jī)》征求意見(jiàn)稿

1T/CEATECXXX-2025鈣鈦礦涂布機(jī)本文件規(guī)定了鈣鈦礦涂布機(jī)的分類(lèi)與構(gòu)成、技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存要求。本文件適用于鈣鈦礦薄膜制備的狹縫涂布機(jī)、刮刀涂布機(jī)等設(shè)備的設(shè)計(jì)、制造和檢驗(yàn)。2規(guī)范性引用文件下列文件中的內(nèi)容通過(guò)文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款。其中，注日期的引用文件，僅該日期對(duì)應(yīng)的版本適用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改單）適用于本文件。GB/T191包裝儲(chǔ)運(yùn)圖示標(biāo)志GB/T2423.1電工電子產(chǎn)品環(huán)境試驗(yàn)第2部分：試驗(yàn)方法試驗(yàn)A：低溫GB/T2423.2電工電子產(chǎn)品環(huán)境試驗(yàn)第2部分：試驗(yàn)方法試驗(yàn)B：高溫GB/T3785.1電聲學(xué)聲級(jí)計(jì)第1部分：規(guī)范GB/T3836.1爆炸性環(huán)境第1部分：設(shè)備通用要求GB/T5080.7設(shè)備可靠性試驗(yàn)恒定失效率假設(shè)下的失效率與平均無(wú)故障時(shí)間的驗(yàn)證試驗(yàn)方案GB/T5226.1機(jī)械電氣安全機(jī)械電氣設(shè)備第1部分:通用技術(shù)條件GB16796安全防范報(bào)警設(shè)備安全要求和試驗(yàn)方法GB/T17421.1機(jī)床檢驗(yàn)通則第1部分：在無(wú)負(fù)荷或準(zhǔn)靜態(tài)條件下機(jī)床的幾何精度GB/T17421.2機(jī)床檢驗(yàn)通則第2部分：數(shù)控軸線的定位精度和重復(fù)定位精度的確定GB/T17421.4機(jī)床檢驗(yàn)通則第4部分：數(shù)控機(jī)床的圓檢驗(yàn)GB/T17421.76機(jī)床檢驗(yàn)通則第7部分：回轉(zhuǎn)軸線的幾何精度GB/T19001質(zhì)量管理體系要求GB/T23156包裝包裝與環(huán)境術(shù)語(yǔ)GB/T23644電工專(zhuān)用設(shè)備通用技術(shù)條件GB/T24342工業(yè)機(jī)械電氣設(shè)備保護(hù)接地電路連續(xù)性試驗(yàn)規(guī)范GB/T25296電氣設(shè)備安全通用試驗(yàn)導(dǎo)則GB/T26125電子電氣產(chǎn)品六種限用物質(zhì)(鉛、汞、鎘、六價(jià)鉻、多溴聯(lián)苯和多溴二苯醚)的測(cè)定GB/T26572電器電子產(chǎn)品有害物質(zhì)限制使用要求GB/T29845半導(dǎo)體制造設(shè)備的最終裝配、包裝、運(yùn)輸、拆包及安放導(dǎo)則GB/T31704裝載機(jī)電子秤GB/T35076機(jī)械安全生產(chǎn)設(shè)備安全通則GB37822揮發(fā)性有機(jī)物無(wú)組織排放控制標(biāo)準(zhǔn)GB/T41515涂布機(jī)術(shù)語(yǔ)GB51206太陽(yáng)能電池生產(chǎn)設(shè)備安裝工程施工及質(zhì)量驗(yàn)收規(guī)范HJ/T55大氣污染物無(wú)組織排放監(jiān)測(cè)技術(shù)導(dǎo)則JJG739激光干涉儀JJF1190塵埃粒子計(jì)數(shù)器校準(zhǔn)規(guī)范JB/T14210機(jī)床電器運(yùn)行可靠性要求和試驗(yàn)方法JB/T14230鋰離子電池極片涂布機(jī)T/CEATECXXX-202523術(shù)語(yǔ)和定義GB/T41515、JB/T14230界定的及下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件。3.1鈣鈦礦涂布機(jī)perovskitecoatingmachine通過(guò)狹縫擠出、刮刀涂布、噴涂或旋涂等方式，在基材表面形成均勻鈣鈦礦濕膜的設(shè)備。3.2涂布頭coatinghead鈣鈦礦涂布機(jī)的核心功能部件，負(fù)責(zé)將鈣鈦礦溶液均勻涂覆至基材表面。3.3涂布速度coatingspeed基材在涂布過(guò)程中通過(guò)涂布頭的線速度（單位：mm/s）。3.4濕膜厚度wetfilmthickness涂布完成后未干燥的鈣鈦礦液膜厚度（單位：μm），通過(guò)狹縫間隙、溶液流量與涂布速度的比值計(jì)算理論值。3.5涂布均勻性coatinguniformity濕膜在基材表面分布的均一性，以厚度變異系數(shù)（CV值）或最大厚度偏差百分比（%）表征。3.6溶液利用率solutionutilizationrate有效成膜溶液質(zhì)量與總消耗溶液質(zhì)量的百分比（%）。4設(shè)備分類(lèi)與構(gòu)成4.1設(shè)備分類(lèi)4.1.1狹縫涂布機(jī)通過(guò)精密狹縫擠出溶液，實(shí)現(xiàn)連續(xù)、均勻的大面積涂布，適用于鈣鈦礦光伏組件量產(chǎn)。4.1.2刮刀涂布機(jī)利用刮刀與基材間隙控制液膜厚度，適配高粘度溶液或柔性襯底（如卷對(duì)卷工藝）。4.1.3旋涂機(jī)通過(guò)高速旋轉(zhuǎn)基材的離心力擴(kuò)散溶液，形成超薄均勻薄膜，適用于實(shí)驗(yàn)室研發(fā)或微型器件制備。4.2設(shè)備構(gòu)成4.2.1供料系統(tǒng)包括儲(chǔ)液罐、計(jì)量泵、過(guò)濾器、溫控單元及管路的子系統(tǒng)，用于鈣鈦礦溶液的恒壓供給、流量控制和雜質(zhì)過(guò)濾。4.2.2涂布單元由涂布頭、快速清洗接口等組成，根據(jù)工藝類(lèi)型配置狹縫頭、刮刀或旋涂盤(pán)。4.2.3基材傳輸系統(tǒng)由伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)的傳送帶、真空吸附平臺(tái)或機(jī)械臂組成的模塊，用于實(shí)現(xiàn)基材的精準(zhǔn)定位、勻速輸送及平整度控制。剛性基材采用真空吸附平臺(tái)，柔性基材采用卷對(duì)卷張力控制。T/CEATECXXX-202534.2.4控制系統(tǒng)由人機(jī)界面、運(yùn)動(dòng)控制器及數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元組成，集成參數(shù)設(shè)定、運(yùn)行監(jiān)控及數(shù)據(jù)管理功能。4.2.5安全防護(hù)系統(tǒng)由急停裝置、防護(hù)罩聯(lián)鎖及環(huán)境監(jiān)測(cè)單元組成。5技術(shù)要求5.1基本要求設(shè)備的生產(chǎn)活動(dòng)應(yīng)當(dāng)符合GB/T19001的規(guī)定。鈣鈦礦涂布機(jī)的基本要求應(yīng)滿足表1。表1基本要求序號(hào)類(lèi)別項(xiàng)目指標(biāo)要求1外觀外觀質(zhì)量符合GB/T23644規(guī)定管路、電路排列符合GB/T5226.1規(guī)定2結(jié)構(gòu)完整性機(jī)架變形量≤0.1mm/m核心模塊裝配精度-同軸度≤±0.05mm核心模塊裝配精度-平行度≤±0.02mm/m3運(yùn)行穩(wěn)定性連續(xù)運(yùn)行8h速度波動(dòng)≤±1%連續(xù)運(yùn)行8h溫控波動(dòng)≤±0.5℃啟停偏差≤±0.1mm4環(huán)境適應(yīng)性工作環(huán)境溫度10～35℃工作環(huán)境濕度20%～70%RH（無(wú)冷凝）貯存環(huán)境溫濕度-20～50℃5.2性能指標(biāo)鈣鈦礦涂布機(jī)涂布工藝應(yīng)符合GB/T41515、JB/T14230的規(guī)定，性能指標(biāo)應(yīng)滿足表2。表2性能指標(biāo)序號(hào)類(lèi)別項(xiàng)目指標(biāo)要求1涂布速度狹縫涂布1～200mm/s刮刀涂布0.5～50mm/s噴涂10～500mm/s涂布速度精度≤±1%2濕膜厚度偏差狹縫、刮刀涂布旋涂厚度≤100nm時(shí)3涂布均勻性（CV值）狹縫涂布刮刀涂布旋涂≤1%（面積≤10cm2)4重復(fù)定位精度剛性基材柔性卷對(duì)卷基材速度≤50mm/s時(shí)5顆粒污染控制涂布腔體中≥0.5μm顆粒數(shù)≤3,520個(gè)/m36可靠性平均無(wú)故障工作時(shí)間≥10000h5.3功能要求鈣鈦礦涂布機(jī)應(yīng)滿足如下功能要求：45.3.1設(shè)備功能要求應(yīng)符合JB/T14320的相關(guān)規(guī)定；5.3.2設(shè)備供料系統(tǒng)儲(chǔ)液罐應(yīng)具備磁力攪拌、恒溫及氮?dú)鈿夥毡Ｗo(hù)功能；5.3.3設(shè)備宜配置相應(yīng)的廢氣、廢水處理裝置；5.3.4設(shè)備人機(jī)界面應(yīng)支持參數(shù)預(yù)設(shè)、實(shí)時(shí)監(jiān)控、故障診斷；5.3.5設(shè)備應(yīng)至少保存30天歷史數(shù)據(jù)，數(shù)據(jù)應(yīng)至少包含涂布速度、厚度、溫度等關(guān)鍵參數(shù)；5.3.6設(shè)備溶液兼容性應(yīng)滿足：刮刀涂布適用溶液粘度范圍：10～10000mPa·s，狹縫涂布適用粘度：1～5000mPa·s，旋涂后的濕膜干燥條件溫度≤80℃。5.3.7設(shè)備基材兼容性應(yīng)滿足：剛性基材涂布機(jī)應(yīng)適配厚度0.1～10mm的玻璃或硅片，柔性基材涂布機(jī)應(yīng)支持卷徑≤600mm的PET/PI卷材，卷材最大適配直徑應(yīng)≤600mm。5.4安全要求鈣鈦礦涂布機(jī)的安全要求應(yīng)滿足表3。表3安全要求序號(hào)類(lèi)別項(xiàng)目指標(biāo)要求1電氣安全絕緣電阻≥10MΩ接地電阻緊急停止響應(yīng)時(shí)間≤0.3s停機(jī)時(shí)間≤1s2機(jī)械防護(hù)運(yùn)動(dòng)部件防護(hù)罩開(kāi)啟時(shí)自動(dòng)斷電設(shè)備運(yùn)行噪音滿足GB167965.5能效與環(huán)保要求鈣鈦礦涂布機(jī)的能效與環(huán)保要求應(yīng)滿足表4。表4能效與環(huán)保要求序號(hào)類(lèi)別項(xiàng)目指標(biāo)要求1能耗單位涂布面積能耗≤0.5kWh/m22環(huán)保揮發(fā)性有機(jī)物無(wú)組織排放符合GB37822規(guī)定有害物質(zhì)限制符合GB/T26572規(guī)定6試驗(yàn)方法6.1試驗(yàn)說(shuō)明6.1.1測(cè)試條件除特殊說(shuō)明外，標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試條件為溫度25±5℃,濕度50±10%RH。6.1.2設(shè)備校準(zhǔn)所有測(cè)量?jī)x器應(yīng)經(jīng)第三方校準(zhǔn)且在有效期內(nèi)。6.2基礎(chǔ)性能試驗(yàn)6.2.1設(shè)備外觀質(zhì)量檢測(cè)應(yīng)符合GB/T23644的相關(guān)規(guī)定。6.2.2設(shè)備各種管路、電路排列的試驗(yàn)方法應(yīng)符合GB/T5226.1的相關(guān)規(guī)定。6.2.3設(shè)備結(jié)構(gòu)完整性試驗(yàn)應(yīng)符合GB/T17421.1、GB/T17421.4、GB/T17421.7的相關(guān)規(guī)定，仲裁以GB/T17421.1為準(zhǔn)。6.2.4設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定性試驗(yàn)應(yīng)符合JB/T14210的相關(guān)規(guī)定。6.2.5設(shè)備環(huán)境適應(yīng)性試驗(yàn)應(yīng)符合GB/T2423.1和GB/T2423.2的相關(guān)規(guī)定。6.3工藝性能試驗(yàn)設(shè)備工藝性能試驗(yàn)應(yīng)參照表5執(zhí)行。T/CEATECXXX-20255表5設(shè)備工藝性能測(cè)試序號(hào)測(cè)試項(xiàng)目測(cè)試方法1涂布速度精度應(yīng)符合JB/T14230的相關(guān)規(guī)定。2濕膜厚度偏差在標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試條件下，使用符合JJG739的非接觸式激光干涉儀測(cè)量基材上5個(gè)點(diǎn)（中心及四角），計(jì)算與設(shè)定值的最大絕對(duì)偏差。3涂布均勻性（CV值）在標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試條件下，在有效涂布區(qū)域內(nèi)取10×10網(wǎng)格點(diǎn)（間距50mm計(jì)算厚度變異系數(shù)（標(biāo)準(zhǔn)差/均值×100%）。4重復(fù)定位精度應(yīng)符合GB/T17421.2的相關(guān)規(guī)定。5顆粒污染控制用符合JJF1190的粒子計(jì)數(shù)器進(jìn)行試驗(yàn)。6平均無(wú)故障工作應(yīng)符合GB/T5080.7的相關(guān)規(guī)定。6.4安全環(huán)保性能試驗(yàn)6.4.1噪聲檢測(cè)應(yīng)符合GB/T3785.1的相關(guān)規(guī)定。6.4.2電氣系統(tǒng)試驗(yàn)應(yīng)符合GB/T5226.1的相關(guān)規(guī)定。6.4.3安全保護(hù)試驗(yàn)應(yīng)符合GB/T3836.1和GB/T24342的相關(guān)規(guī)定。6.4.4單位涂布能耗試驗(yàn)方法在標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試條件下，設(shè)備運(yùn)行1h，電能表記錄總耗電量，計(jì)算單位面積能耗（kWh/m2)。6.4.5污染物排放檢測(cè)應(yīng)符合HJ/T55的相關(guān)規(guī)定。6.4.6有害物質(zhì)檢測(cè)應(yīng)符合GB/T26125的相關(guān)規(guī)定。7檢驗(yàn)規(guī)則7.1檢驗(yàn)分類(lèi)檢驗(yàn)分類(lèi)分為出廠檢驗(yàn)和型式檢驗(yàn)。7.2檢驗(yàn)項(xiàng)目7.2.1出廠檢驗(yàn)項(xiàng)目應(yīng)為本文件5.1-5.4中的技術(shù)要求。檢驗(yàn)中有一項(xiàng)不符合規(guī)定，應(yīng)雙倍取樣，對(duì)不合格項(xiàng)目復(fù)檢，仍不符合規(guī)定，應(yīng)判為不合格品。7.2.2型式檢驗(yàn)項(xiàng)目應(yīng)為本文件第5章規(guī)定的全部項(xiàng)目。7.3型式檢驗(yàn)條件有下列情況之一時(shí)，應(yīng)進(jìn)行型式檢驗(yàn)：a）新產(chǎn)品或老產(chǎn)品轉(zhuǎn)產(chǎn)生產(chǎn)的試制定型鑒定時(shí)；b）正常生產(chǎn)時(shí)，定期或累積一定產(chǎn)量后，每年檢驗(yàn)一次；c）正式生產(chǎn)后，結(jié)構(gòu)、材料、工藝改變，可能影響產(chǎn)品性能時(shí)；d）停產(chǎn)2年后，恢復(fù)生產(chǎn)時(shí)；e）出廠檢驗(yàn)結(jié)果與上次型式檢驗(yàn)結(jié)果有較大差異時(shí)。8標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸、貯存8.1標(biāo)志設(shè)備標(biāo)簽上應(yīng)按GB/T23156的有關(guān)規(guī)定標(biāo)注。8.2包裝本條目應(yīng)符合GB/T29845的有關(guān)規(guī)定，宜包括下列要求：a）包裝貯運(yùn)圖示標(biāo)志標(biāo)準(zhǔn)；b）危險(xiǎn)貨物包裝標(biāo)志標(biāo)準(zhǔn)；c）運(yùn)輸包裝收發(fā)貨標(biāo)志標(biāo)準(zhǔn)；T/CEATECXXX-20256d）其他有關(guān)標(biāo)志標(biāo)準(zhǔn)。8.3運(yùn)輸8.3.1儲(chǔ)運(yùn)圖示的標(biāo)志應(yīng)符合GB/T